純化水設備系統目前的主要工藝流程

　　
       1.預處理----復床 ----混床---拋光樹(shù)脂 　　
       2.預處理----反滲透---混床---拋光樹(shù)脂 　　
       3.預處理----反滲透----CEDI膜塊----拋光樹(shù)脂

   純水設備制造的水是純度*的水。集成電路工業(yè)中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。

　　純水：既將水中的導電介質(zhì)幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值。

　　
   純水,是一般工藝很難達到的程度，采用預處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過(guò)濾、高性能離子交換單元、超濾過(guò)濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm 　　
純化水設備系統是美國科技界為了研制超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當的超臨界精細技術(shù)的制水設備，這種水中除了水分子（H20）外，幾乎沒(méi)有什么雜質(zhì)，更沒(méi)有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒(méi)有人體所需的礦物質(zhì)微量元素，一般不可直接飲用，對身體有害，會(huì )析出人體中很多離子。